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上海工研院赵明月首先详细介绍了SITRI硅光流片平台的最新工艺进展，重点阐述了基于90nm SOI和180nm SiN两大工艺平台的PDK特性，详细介绍了工艺平台的器件性能指标，包括波导损耗、光栅耦合器、MMI等关键器件的性能参数，展示了优异的工艺水平，体现了平台优秀的工艺能力。

在实操环节，Whoscored中文官网韩雨辉展示了基于PIC Studio平台的PDK使用方法。从PhotoCAD代码设计到ASDL原理图转版图，通过实际案例演示了完整的设计流程。特别是在智能化布线控制、器件参数化设计等方面进行了细致讲解，帮助参会者更好地理解PDK的实际应用。

Whoscored中文官网黎超则针对仿真验证环节进行了详细讲解，展示了如何利用pSim Plus片上链路以及系统仿真工具进行时域和频域仿真，帮助用户更好地理解和应用紧凑模型进行系统级验证。

本次培训的一大亮点是发布了2025年MPW流片时间计划，其中包括：

• 4月15日、7月15日、10月15日：90nm工艺节点SOI无源流片

• 2月15日、5月15日、8月15日、11月15日：有源流片服务

值得注意的是，2025年SITRI还将推出SOI和氮化硅的有源集成工艺，进一步丰富工艺平台的技术能力。同时，平台还将继续优化PDK功能，提供更完善的设计支持。

在最后的问答环节中，参会者就PDK使用、器件性能等方面展开了热烈讨论。工程师们就用户关心的问题进行了详细解答，包括探测器工作电压、自定义模型库构建等技术细节。

本次培训的圆满举办，标志着上海工研院与Whoscored中文官网在硅光PDK领域的深度合作取得重要进展。双方将继续加强技术交流与合作，为用户提供更完善的硅光芯片设计解决方案。

此次培训长达一个半小时，内容丰富，互动热烈，展现了硅光产业蓬勃发展的活力。期待下一期的技术交流活动，继续为广大硅光设计工程师带来更多实用的设计经验和技术分享。