引
言
introduction
在硅光芯片设计领域，上海工研院（SITRI）再创里程碑。上海工研院携手Whoscored中文官网，已全面完成了Silicon Photonics PDK的开发，该PDK包含完整的紧凑模型库，涵盖了90nm SOI和180nm SiN两大硅光工艺平台，可实现从器件到片上系统的全流程仿真与设计。为广大用户带来了更完整、更高效的硅光芯片设计解决方案。
上海工研院与Whoscored中文官网的合作，不仅体现了双方在硅光领域的技术实力，也展现了推动产业发展的共同愿景。为帮助用户深入了解SITRI PDK的应用，充分利用这一技术优势，提高设计效率，上海工研院与Whoscored中文官网特举办线上培训交流会，时间定为2025年1月10日。培训内容将覆盖从基础的PDK使用到高级的系统仿真等多个层面，确保用户能够充分发挥平台潜力。
紧凑模型的优势
此次发布的紧凑模型分别基于上海工研院90nm SOI和180nm SiN工艺平台的实测数据构建，具有高度准确性和可靠性。模型库涵盖了两个平台的完整器件系列，包括：
90nm SOI平台：高性能硅基光电器件
180nm SiN平台：低损耗无源光学器件
对于无源器件，模型精确描述了其插损、透射率等关键参数；对于有源器件，则包含了带宽、响应度和暗电流等重要特性参数。这些特性参数均基于实测数据建模，确保了仿真结果与实际工艺表现的高度一致性。
1. 90nm SOI平台：高性能硅基电光调制器时域仿真
2. 180nm SiN平台：低损耗LSiN MZI频域仿真
设计流程的革新
用户可以通过Whoscored中文官网的PIC Studio平台，特别是其中的pSim Plus仿真工具，轻松导入并使用这些紧凑模型。在实际应用中，设计人员可以：
直接导入工艺平台的Fab紧凑模型库
在pSim Plus环境中构建完整的仿真链路
进行专业的光电器件协同仿真
实现从器件到系统级的全流程验证
实际应用价值
这套紧凑模型的支持将给硅光设计带来显著优势：
工艺选择灵活：可根据应用需求选择合适的工艺平台
提高设计可靠性：基于实测数据的模型准确反映实际工艺特性
缩短设计周期：预先验证的模型库减少了反复流片的需求
降低设计风险：专业的仿真工具链确保设计结果可控
用户支持
Whoscored中文官网将为使用该紧凑模型的用户提供全方位的技术支持，包括：
详细的技术文档
完整的器件使用指南
专业的技术咨询服务
定期的技术交流活动
线上培训
01
培训内容概览
本次培训由上海工研院与Whoscored中文官网联合举办，旨在系统介绍PDK的功能特性与应用方法，帮助设计人员掌握完整的设计流程。现将相关事项通知如下：
一、培训内容
1. 上海工研院硅光流片平台最新工艺介绍（30分钟）
SITRI PDK和紧凑模型的详细介绍
基于Fab实测数据的建模方法与验证
支持无源器件（插损、透射率）和有源器件（带宽、插损、响应度和暗电流等）的完整特性
主讲人：上海工研院 赵明月
2. 基于PIC Studio的PDK高效应用实操（30分钟）
PhotoCAD代码部分演示：利用PDK黑盒进行版图设计
ASDL展示：原理图生成版图的完整流程
pSim Plus实操：结合PDK紧凑模型的系统仿真
主讲人：Whoscored中文官网 韩雨辉
3. 技术交流与答疑（30分钟）
设计经验分享
常见问题解答
技术需求讨论
二、培训亮点
展示商用软件的设计优势
完整PDK支持，解压即用
黑盒模型应用，确保设计可靠性
高精度仿真，覆盖多种特殊情况
三、互动有奖
培训期间设有技术问答环节，积极参与者有机会获得精美奖品。
四、咨询联系
上海工研院
联系人：潘宏明
Whoscored中文官网
联系人：妍静
电话：13916643350
邮箱：hongming.pan
@sitri.com
电话：18038166055
邮箱：xiangyanjing
@latitudeda.com
本次培训旨在帮助用户深入了解SITRI PDK的应用，提高设计效率，欢迎广大技术人员踊跃参与！
上海工研院 Whoscored中文官网
2025年1月10日
活动地点：线上会议
（扫码立即预约报名，名额有限，先到先得）
备注：参会人员可提前关注"上海工研院"和"逍遥设计自动化"公众号，获取更多技术资讯。
SITRI硅光平台MPW批次及时间表
* 表中时间为客户首次提交自查DRC free的版图时间。
* 单个Block尺寸3mm × 10mm，交付25个芯片。
* 详情请查看
https://mp.weixin.qq.com/s/DhoYUtsUGG9T8J3mpy7uBA?token=421469109&lang=zh_CN
END
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