OpenLayout重磅发布:特色工艺版图设计的新支点
2024年7月12日,Whoscored中文官网正式发布全新一代图形化版图设计工具—OpenLayout。这款专为特色工艺半导体器件与集成电路量身打造的工具,以其友好的用户界面和强大的功能,旨在全面提升开发效率与设计精度。OpenLayout为功率器件、MEMS器件以及光电子集成芯片的版图设计带来了显著的改进和创新。
OpenLayout采用所见即所得的设计方法,版图数据库与单元列表的多种呈现方式清晰展现设计层次,拖拽式工具栏集绘图、编辑、测量、DRC等功能于一身。无需陡峭的学习曲线,工程师们可以轻松上手,专注创新。这种直观的设计方法让复杂的版图设计变得轻而易举。传统版图工具主要针对芯片设计,难以满足功率器件、MEMS等特色工艺产品的曲线布线与容错DRC需求。OpenLayout填补了这一空白,为特色工艺设计提供全方位支持,能够轻松处理曲线结构,这对于功率器件和MEMS器件的安全可靠性很重要。让我们以设计PMUT超声波传感器阵列为例,来展示 OpenLayout 的几个关键功能:1.物件选择: 在设计PMUT阵列时,OpenLayout提供灵活的选择工具。设计师可以轻松选择单个或多个PMUT单元,进行精确编辑。局部选中与全局选中的控制使得在复杂的阵列结构中进行修改变得简单直观。


2.工艺层设定:PMUT设计涉及多个工艺层,如压电层、电极层等。OpenLayout允许设计师轻松定义和管理这些工艺层,确保每一层都能准确反映实际制程需求。

3.尺标功能: 精确的尺寸控制对PMUT性能很重要。OpenLayout的测量标尺功能允许设计师通过简单的鼠标滑动即可测试设计对象尺寸,确保每个PMUT单元和整个阵列的尺寸精确无误。

4.层的显示与隐藏: 在设计复杂的PMUT阵列时,能够灵活地显示或隐藏不同层面非常重要。OpenLayout提供直观的层管理界面,设计师可以快速切换不同工艺层的可见性,便于关注特定结构或检查层间关系。

OpenLayout支持丰富的业界数据格式,如DXF、GDSII等,轻松实现数据转换。内置参数化版图单元生成器,可定制场环、弹簧等异形结构,加速设计迭代。OpenLayout还可与Power Studio、MEMS Studio等多物理场建模、设计工具无缝衔接,实现从二维版图到三维模型、再到多物理场仿真的完整设计流程,打造一体化设计平台。这意味着设计师可以在一个统一的环境中完成从概念到实现的全过程,大大提高了工作效率。2024下半年度,OpenLayout迎来重大更新,全方位功能升级:
多物理场耦合仿真接口: 支持多物理场仿真软件的接口,设计初期即可进行仿真验证。

材料库与制程管理: 内置MEMS常用材料库,支持自定义材料参数。
3D视图与编辑功能: 提供3D视图,支持直接在3D视图中编辑MEMS组件。
功率器件专用DRC/LVS规则: 内置功率器件专用设计规则检查与版图电路一致性检查规则。
电气性能仿真接口: 支持与TCAD、SPICE等电气性能仿真软件的接口。
高电压和大电流设计支持: 提供特殊的高电压间距规则、大电流导线设计等。

这些升级将使OpenLayout在MEMS、功率等特色工艺设计领域更具竞争力,为设计师们带来前所未有的便捷与高效。OpenLayout,您的特色工艺版图设计好助手!OpenLayout的推出为特色工艺半导体行业带来新的机遇和可能性。不仅提高了设计效率,还为工程师提供了更大的创新空间。无论是PMUT这样的MEMS器件,还是其他特色工艺产品,OpenLayout都将成为您不可或缺的得力助手。