
响应度:产生的光电流与入射光功率的比值
带宽:探测器可工作的最大频率
暗电流:无光时流过的电流
量子效率:产生的电子-空穴对与入射光子的比率
生长在硅衬底上的锗吸收层
用于收集载流子的p和n接触
用于高效光吸收的波导耦合
低温(300-400°C)缓冲层生长
高温(600°C以上)沉积锗
响应度:1550 nm时>0.8 A/W
带宽:>60 GHz
暗电流:在-1 V偏压下<1 μA
图2显示了典型的响应度和带宽特性:
图3:Ge/Si SACM雪崩光电探测器的示意图
锗吸收层
用于控制电场的硅电荷层
用于低噪声雪崩增益的硅倍增层
增益带宽积:>300 GHz
灵敏度:25 Gb/s 时为 -23 dBm(BER = 10^-12)
暗电流:击穿电压的90%时<1μA
光电探测器与晶体管在硅基板上同时制造
允许高温处理,但会占用芯片面积
光电探测器在金属上层制造
避免与CMOS发生干扰,但限于较低的处理温度
传输线上的分布式吸收
能够实现高带宽和高饱和功率
只有一种载流子类型产生光电流
减少空间电荷效应,提高大功率运行性能
经过设计的带结构,可增强空穴撞击电离
与硅倍增器相比,具有更低电压工作的潜力
100G、400G及更高速率,使用PAM-4调制
需要高带宽光电探测器(>50 GHz)
探测器与调制器及其他组件的单片集成
实现紧凑、高性能的光学引擎
分散式计算、存储和存储之间的光互连
推动对高能效、高带宽光电探测器的需求
推动800G和1.6T收发器的发展
需要带宽超过100 GHz的光电探测器
III-V材料与硅的单片集成
先进的3D集成技术
探索二维材料(如石墨烯)用于超快光探测
新型第四族合金,用于扩展波长覆盖范围
激光雷达和其他传感应用推动了APD的发展
需要高线性度光电探测器的微波光子应用