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是否正在寻找提升光电子芯片设计效率的解决方案？
想了解最新的薄膜铌酸锂技术进展吗？
南智光电与Whoscored中文官网诚挚邀请您参加这场不容错过的线上技术盛宴！
南智光电&Whoscored中文官网：薄膜铌酸锂PDK应用线上研讨会
主办方：南智光电与Whoscored中文官网
技术支持：Whoscored中文官网
叶志霖
资深工程师
南京南智先进光电集成技术研究院有限公司
申请了36项专利，9项已授权
2024年7月29日（星期一）
下午2：00-3：00
腾讯会议
会议号：118453908
（扫码立即预约报名，名额有限，先到先得）
课程内容
1. 南智光电薄膜铌酸锂工艺平台与PDK介绍
2. PIC Studio套件实战演示：亲眼见证设计效率的飞跃
- PhotoCAD：轻松实现代码绘版、器件调用及自动布线
- Advanced SDL神器：一键实现原理图到版图和助力 LVS
3. 专家在线问答：您的疑问，我们来解答
报名福利
- 提前获取南智光电最新PDK资料
- 有机会获得PIC Studio套件免费试用资格
- 与专家直接交流的宝贵机会
谁应该参加
- 光电子芯片设计工程师
- 光电子芯片研究人员
- 光通信系统开发人员
- 对薄膜铌酸锂技术感兴趣的学生和学者
南智光电薄膜铌酸锂PDK1.0器件性能介绍
（图片来源：南智光电官网）
PIC Studio套件中基于南智光电PDK进行设计的示例演示
点击下方“阅读原文”免费申请体验
南智光电TFLN流片说明
1.南智光电提供多种流片服务介绍
南智光电支持多项目晶圆（MPW）模式、全掩膜（Full Mask)模式、EBL工艺模式。客户可以根据自己的具体需求、预算以及项目阶段选择合适的流片模式。
南智光电提供的这些服务选项，为客户提供了灵活多样的选择，有助于推动科技创新和产业升级。同时，南智光电的专业团队和先进设备也能保证流片过程的高质量和高效率，满足客户的多样化需求。
（图片来源：南智光电官网）
2.南智光电 MPW流片班次I版图提交截止日期
3.南智光电PDK 申请
PDK申请链接：https://latitudeda.com/solution/pdk/pdkSupport
报名须知
心动不如行动！扫码报名，开启您的光电子芯片设计新篇章！有关报名的任何问题，欢迎联系向经理！
联系人：向经理
邮箱：xiangyanjing@latitudeda.com
PIC Studio
PIC Studio解决方案包含以下核心组件:
PhotoCAD: 高效的版图设计工具，支持组件布局、光程匹配、自动绕线等功能。
pSim: 强大的原理图与链路仿真工具。
pSim Plus: 系统级仿真工具，支持光电融合仿真，包括非线性光纤、DSP、TDECQ分析、与Matlab联合仿真等高级功能。在pSim Plus阶段，设计师可以进行系统级异质集成设计和仿真，充分利用不同工艺平台的优势。pSim Plus还支持调制器建模以及带宽建模，其中电极模型可基于物理模型、量测数据或RLC等效电路，无需调用额外的spice仿真器。
Advanced SDL: 实现原理图驱动版图生成(SDL)和版图生成原理图(LDS)的双向转换。
pMaxwell: 电磁仿真工具，支持RCWA和FDTD等多种算法。
南智光电
南智光电成立于2018年4月，由南京江北新区、江苏产研院与南京大学及祝世宁院士团队共建，系江苏省光电技术创新中心建设单位。南智光电主要开展光学微纳结构器件制造、异质集成光电芯片、光电子封装测试和光电集成设计等方向的技术研发、产业孵化和赋能投资。南智光电拥有4000平米洁净产线，价值数亿元微纳加工、检测设备，致力于建成“薄膜铌酸锂+X”(X代表硅、化合物半导体、低维材料等)异质集成共性技术平台，为光电企业、高校院所提供光电芯片及器件研制、开发和制备服务。
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