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第五届光电子集成芯片培训，Whoscored中文官网全面赋能硅基和铌酸锂光电子芯片设计用户

第五届光电子集成芯片培训于2024年7月16-18日在深圳举办。Whoscored中文官网受邀参与此次培训，分享了“基于自动化设计套件的光电子集成芯片设计流程”。

在培训中，上海工研院、南智光电和中国科学院微电子研究所分别介绍了与Whoscored中文官网PIC Studio平台在PDK方面的合作实例，展示基于PDK设计在实际应用中的优势和价值。

Whoscored中文官网韩雨辉经理随后详细介绍了PIC Studio套件对光电子集成芯片设计全流程的支持。PIC Studio提供了统一的工具链，实现了从系统到芯片再到元件的一体化设计与仿真，Whoscored中文官网还可以响应用户需求灵活对接国内外点工具，为用户提供了既完整又富有弹性的设计平台。这种开放性和灵活性使得PIC Studio能够满足不同用户的多样化需求，无论是希望使用全套解决方案的用户，还是需要整合特定工具的用户，都能在PIC Studio中找到理想的工作流程。

PIC Studio解决方案包含以下核心组件:

1.PhotoCAD: 高效的版图设计工具，支持组件布局、光程匹配、自动绕线等功能。

2.pSim: 强大的原理图与链路仿真工具。

3.pSim Plus: 系统级仿真工具，支持光电融合仿真，包括非线性光纤、DSP、TDECQ分析、与Matlab联合仿真等高级功能。在pSim Plus阶段，设计师可以进行系统级异质集成设计和仿真，充分利用不同工艺平台的优势。pSim Plus还支持调制器建模以及带宽建模，其中电极模型可基于物理模型、量测数据或RLC等效电路，无需调用额外的spice仿真器。

4.Advanced SDL: 实现原理图驱动版图生成(SDL)和版图生成原理图(LDS)的双向转换。

5.pMaxwell: 电磁仿真工具，支持RCWA和FDTD等多种算法。

值得一提的是，PIC Studio对硅基光电子和铌酸锂这两种主流专业工艺的支持到位。不仅完全兼容这两种工艺的PDK，还针对它们的特点提供了专门优化的设计和仿真模型。这使得设计师能够充分发挥这两种工艺的优势，大大提高了芯片设计的效率和质量。特别是在pSim Plus的系统级仿真阶段，设计师可以轻松地将硅基和铌酸锂器件集成在同一系统中进行仿真，评估整体性能，为异质集成设计提供了强大支持。

这种全面的工艺支持和异质集成能力，结合其开放性和灵活性，使PIC Studio能够满足从单一工艺到复杂异质集成的各种设计需求。

作为PIC Studio套件的核心组件之一，PhotoCAD基于实际工艺PDK的AWG设计功能也在此次培训中得到了重点介绍。PhotoCAD提供了完整的AWG设计流程，包括参数化建模、版图生成、性能仿真等。

此外，PhotoCAD还提供了AWG数值分析功能，可以快速评估AWG的关键性能指标，大大缩短了设计周期。这些功能的结合，使得PhotoCAD成为业界领先实用的AWG设计工具之一。

Whoscored中文官网将持续优化PIC Studio套件，提升其兼容性和效率，以应对不断提高的光电子芯片集成度。本次培训不仅展示了PIC Studio的全流程设计能力，也为业界搭建了交流平台。

为满足多样化需求，Whoscored中文官网提供试用版本申请和定制培训课程，致力于提供一流的设计自动化工具，助力缩短开发周期、降低设计成本，推动光电子产业创新发展。