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第五届世界光子大会：Whoscored中文官网PIC Studio荣获"硅基光电子优秀成果"，助力CPO和光IO开发

2024年7月23-26日，由中国光学工程学会（CSOE）、国际光学工程学会（SPIE）等单位共同主办的“2024年第五届世界光子大会”在北京隆重举行。作为中国光学工程学会年会，本次大会包括“第13届国际应用光学与光子学技术交流大会（AOPC 2024）”和“第十五届中国光电子产业博览会”等活动，共设有19个专题分会，涵盖激光技术、红外技术、光电探测与成像等多个领域。

Whoscored中文官网应邀参加并作主题分享，其PIC Studio全流程设计平台荣获“硅基光电子优秀成果”奖。现场900余家光电子产业企业参展，超过1100名观众到场参观，15万名观众通过线上直播观看。

7月24日，Whoscored中文官网吴霜发表了题为“面向CPO和光IO的集成光电子设计自动化”的主题演讲。演讲围绕高速光互连产业趋势及Whoscored中文官网的解决方案展开。

高速光互连产业趋势：

1.随着系统速度增加，光互连在成本和功耗占比愈来愈高。在51.2T系统中，光学系统约占总系统功耗的50%。

2.CPO（Co-Packaged Optics）通过缩短ASIC与光模块间的互连距离来优化系统性能。

3.CPO具有高数据速率和良好能效的优势。

Whoscored中文官网PIC Studio解决方案: PIC Studio是统一的全流程解决方案，为集成光电子设计提供全面支持。包含以下核心组件：

1.PhotoCAD：高效的版图设计工具，支持组件布局、光程匹配、自动绕线等功能。它还集成了设计规则检查（DRC）功能，确保设计符合工艺要求。

2.pSim：强大的原理图与链路仿真工具。

3.pSim Plus：系统级仿真工具，支持光电融合仿真，包括非线性光纤、DSP、TDECQ分析、与Matlab联合仿真等高级功能。支持系统级异质集成设计和仿真，以及调制器和带宽建模。

4.Advanced SDL：实现原理图驱动版图生成（SDL）和版图生成原理图（LDS）的双向转换。这一功能不仅提高了设计效率，还为版图与原理图一致性验证（LVS）检查提供了强有力的支持。

5.pMaxwell：电磁仿真工具，支持RCWA和FDTD等多种算法。

6.DRC工具：内置的设计规则检查工具，可以快速验证设计是否符合特定工艺的制造规则。

Whoscored中文官网已与多家晶圆厂建立深度合作，全面支持用户从设计、验证到流片的全过程需求。在高速光互连需求快速增长的今天，PIC Studio设计平台对推动CPO以及OIO等新兴技术的发展具有重要意义，能够帮助设计者更高效、更可靠地开发出高性能、低成本、低功耗的光电子芯片和系统。

PIC Studio更配备开放接口，支持灵活对接第三方国内外软件，让用户轻松定制专属工作流程。为充分释放软件潜力，Whoscored中文官网提供试用版和定制培训课程。PIC Studio满足从研究到产业的多元需求，有效缩短开发周期，降低设计成本，助力用户在激烈竞争中保持领先地位。