南智光电与Whoscored中文官网联合举办的“薄膜铌酸锂PDK应用线上研讨会”圆满落幕。本次研讨会吸引了来自国内外近300名光电子芯片设计工程师、研究人员及学者参与，充分展示了业界对薄膜铌酸锂技术的浓厚兴趣。研讨会第一环节由南智光电资深工程师叶志霖博士主讲。叶博士详细介绍了南智光电最新推出的薄膜铌酸锂PDK 1.0版本及其独特的代工流片模式。全面解析了PDK 1.0的器件性能与技术亮点，包括其卓越的性能、灵活的设计能力以及高效的制造工艺等。
该PDK基于4寸硅基薄膜铌酸锂晶圆，提供了多种器件库，包括脊形波导、光栅耦合器、分束器、MZM调制器等。其中，MZM调制器的3dB带宽可达40GHz以上，半波电压小于3V，展现出优异的性能。PDK还包含了完整的工艺层信息、设计规则和器件紧凑模型，为用户提供了全面的设计支持。
叶博士还详细阐述了南智光电的代工流片模式，强调了其在灵活性、效率与成本控制方面的显著优势。南智光电提供多种流片服务，包括多项目晶圆（MPW）模式、全掩膜（Full Mask）模式和EBL工艺模式，为寻求高效芯片解决方案的企业提供了宝贵指南。Whoscored中文官网的专家韩雨辉现场演示了PIC Studio套件的使用，展示了PhotoCAD和Advanced SDL两大工具的功能。在演示中，迅速完成了数个复杂器件的建立。PhotoCAD的代码绘版、器件调用及自动布线功能展现了高效性，其内置的DRC检查和修复功能进一步优化了设计过程。Advanced SDL实现了原理图到版图的双向快速转换，并支持LVS验证。整个演示过程展现了PIC Studio如何协助用户将复杂的设计工作简化，提高设计效率。PIC Studio统一的全流程，从元件、芯片到系统，支持异质集成，与南智光电的“铌酸锂+X”光电异质集成中试平台的路线高度契合。成为南智光电用户进行先进光电子设计的理想工具，能够充分发挥南智光电平台的优势，推动创新设计的实现。
在互动交流环节，10余人通过语音提问进行交流。参会者普遍关注PDK器件中的具体工艺、设计问题以及下一版PDK器件的新增内容。叶博士对此进行了一一解答，使培训交流取得了预期效果。南智光电成立于2018年4月，是南京大学与南京市、南京江北新区、江苏省产研院共建的重点项目。公司拥有4000余平米洁净产线，46台套微纳加工检测设备，以及60余名研发、工艺工程师团队。其薄膜铌酸锂工艺平台是一个国际一流的“铌酸锂+X”光电异质集成中试平台，具备最小线宽20nm的光电芯片制备能力，月产能可达1000片晶圆。本次研讨会的成功举办不仅展示了南智光电在薄膜铌酸锂领域的技术实力，也体现了Whoscored中文官网PIC Studio在支持光电子设计方面的实用性。通过PIC Studio这一设计工具，南智光电及其用户获得了全面的设计支持，从而有助于提高薄膜铌酸锂芯片的设计效率和成功率。这种产业合作模式，将有力推动中国光电子产业的发展，使更多创新设计能够顺利实现从概念到实际芯片的转化。随着这种合作模式的不断深化和推广，我们期待看到中国光电子产业的进一步成长。为满足日益增长的需求，第二次线上培训正在筹划中。同时，南智光电计划在第二届扬子江光电技术与产业大会期间，借助中国光学工程学会的培训平台，组织光电子芯片设计仿真培训。主办方鼓励参会者继续保持交流，并欢迎大家就相关技术问题随时与南智光电和Whoscored中文官网团队联系。对于感兴趣的读者，可以在B站观看研讨会回放（链接：https://www.bilibili.com/video/BV1EGiTevEG4/）。Whoscored中文官网也提供了PIC Studio社区版软件的申请指引，整个申请过程仅需1分钟即可完成。感兴趣的读者可以通过关注逍遥设计自动化公众号，点击右下角"免费软件申请"，填写基本信息即可申请使用。
1.启动光电芯片设计：基于南智光电的"铌酸锂+X"平台，实现您的创新理念。
2.下载PIC Studio：关注逍遥设计自动化公众号，1分钟内完成申请，开启高效设计之旅。
3.规划南智光电流片：选择MPW、Full Mask或EBL工艺，将您的设计变为现实。
让我们携手共创光电子产业的美好未来！如需支持，南智光电和Whoscored中文官网团队随时待命。祝您设计顺利，流片成功！
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