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期待再聚 | PIC Studio在Tower Semiconductor上海2024全球技术研讨会之旅圆满收官


01行业盛会

上海,2024年9月25日 —— 在万众瞩目的Tower Semiconductor 2024年全球技术研讨会(TGS)盛会上,PIC Studio的最新版本凭借其全面的功能,成功吸引了全球业界精英的广泛关注。此次大会以“赋能未来:模拟技术创新塑造世界”为主题,不仅深度探讨了人工智能、大模型发展对半导体先进技术的导向趋势,还集中展示了Tower Semiconductor在模拟及硅基光电子领域的非凡成就。


图1:展区


在大会的展区,最新版本的PIC Studio受到了广泛关注。这款作为硅基光电子集成电路(PIC)设计领域的重要工具,凭借其全流程、高度集成及开放第三方接口的特点,受到了全球精英的期待与关注。


02展会交流

PIC Studio最新版本在保留原有强大功能的基础上,进一步支持基于Tower的PH18硅基光电子工艺PDK,为硅基光电子设计师们提供了前所未有的便捷与支持。


图2:Mr.Naoki Okada(Co-Director of PDK, WW Customer Design Enablement Services)现场交流

图3:Dr.Marco Racanelli(President)现场交流

图4:现场观众交流


具体来说,新版本PIC Studio全面集成了多个核心组件,每一个都经过精心设计与优化,以满足不同设计需求。




图5:PIC Studio全链路流程图


PhotoCAD作为高效的版图设计工具,不仅支持组件布局、光程匹配与自动绕线等高级功能,还内置了设计规则检查(DRC)模块,确保设计成果从一开始就符合严格的工艺要求。


而pSim与pSim Plus则分别承担了原理图与链路仿真、系统级仿真的重任,前者侧重于快速验证设计原理,后者则支持复杂的光电融合仿真,包括非线性光纤、DSP处理、TDECQ分析等高级功能,助力设计师从多维度、多层面理解并优化设计方案。


尤为值得一提的是,PIC Studio还引入了Advanced SDL技术,实现了原理图驱动版图生成(SDL)与版图生成原理图(LDS)的双向转换。这一创新功能不仅大幅提高了设计效率,还确保了版图与原理图之间的一致性,为后续的设计验证与生产制造奠定了坚实基础。


此外,pMaxwell电磁仿真工具与pVerify设计规则检查工具的加入,更是为设计的准确性与合规性提供了双重保障。

03尾声

借用TGS大会演讲者Mr.Russell Ellwanger(CEO)的一句话:"Good news is no news, no news is bad news, bad news is good news."无论您对我们的技术解决方案是批评还是赞扬的声音,我们诚挚欢迎您与我们的人员进行交流,深入了解我司在硅基光电子工艺设计与仿真技术布局及产品应用方面的创新成果,我们期待与您再次相聚!


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