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PhotoCAD与L-Edit的跨平台集成设计方案

深圳逍遙科技有限公司


摘要

本白皮书阐述PhotoCAD与L-Edit跨EDA平台的集成设计方案,如何利用两者自动化布线与手动布线的优势,并支持多家光电子晶圆厂的PDK,为用户提供灵活可靠的光电子集成芯片设计解决方案。


Keywords:  PhotoCAD、L-Edit、PDK、跨EDA平台。


引言

光电子芯片设计日益复杂,需要自动化与手动设计手段的有机结合。PhotoCAD提供先进的自动化布线,L-Edit提供成熟的手动GUI布线,两者跨平台集成可以发挥各自优势。该解决方案还支持各大工艺厂的PDK,使设计流程更为灵活。本白皮书探讨这种开放融合的设计方案如何帮助用户优化光电子芯片设计。


光电子芯片设计的需求

光电子芯片集成了光子器件与电子器件,相较于传统电子芯片,其设计与实现面临独特挑战:

  • 需同时优化电子与光子器件的布置。

  • 光子器件有复杂的光学设计规则。

  • 波导传输需要精确仿真与优化。

  • 工艺限制增加设计难度。

  • 功能复杂提高验证难度。

因此,设计流程需要自动化设计提高效率,也需要灵活的手动设计确保质量。


PhotoCAD的智能自动化布线

PhotoCAD利用先进算法实现自动化光电子芯片布线:

  • 支持各主要厂商的工艺设计套件(PDK)。

  • 脚本引擎自动布线连接光电子器件。

  • 拓扑优化减小波导损耗。

  • 内置设计规则确保制造友好。

  • 高效生成器件注解和版图。

  • 支持参数扫描进行版图优化。

PhotoCAD自动化布线大幅提升设计效率。


图片 


L-Edit的手动GUI布线

L-Edit提供成熟的手动GUI光电子版图设计功能:

  • 经典的交互式视觉化版图编辑器。

  • 支持拖放光电子器件布局。

  • 直观的手动波导布线工具。

  • 基于PDK的器件库。

  • 输出与PhotoCAD兼容的版图。

L-Edit手动布线优势:

  • 设计师可全面控制复杂布局。

  • 精细轻松调整金属绕线性能。


支持多厂商PDK支持

PhotoCAD和L-Edit联合支持主要光电子晶圆厂的关键工艺设计套件(PDK)。两者的联合方案允许更广泛丰富的PDK支持,这是单一平台难以实现的。

  • IMECAS - 中国

  • CEA-Leti - 法国

  • SMART Photonics - 荷兰

  • AMF - 新加坡

  • CompoundTek - 新加坡

  • IMEC - 比利时

  • IHP - 德国

  • HHI Fraunhofer - 德国

跨EDA厂商的PDK支持,使设计流程更为开放与灵活。


Calibre物理验证

在自动与手动布线后,使用Calibre进行物理验证:

  • Calibre是全球晶圆厂公认的物理验证黄金标准。

  • 自定义光电子设计规则检查。

  • 建模复杂的光学行为。

  • 识别布局缺陷和制造风险。

  • 支持布局修订的迭代流程。

  • 使用晶圆厂合格的规则库。

  • 自动批量操作提高效率。

凭借在全球晶圆厂中的领先地位,使用Calibre物理验证可以确保光电子芯片设计的正确性,避免高昂的再次设计。


设计流程融合

将PhotoCAD、L-Edit和Calibre有机融合,构建端到端设计流程:

  • PhotoCAD负责自动化布线。

  • L-Edit提供手动布线能力。

  • Calibre进行物理验证。

  • 设计师可以选择最佳工具组合。

  • 平滑可靠地逐步过渡到产品上市。

  • 提高设计效率和质量。

  • 缩短产品上市时间。

这样的开放融合提高设计流程的灵活性,让用户获得最佳设计体验。


总结

PhotoCAD和L-Edit的跨平台设计方案发挥了两者在自动化布线和手动布线上的优势,为用户提供了一个灵活可靠的光电子芯片设计解决方案。


关键优势包括:

  • PhotoCAD实现高效自动化布线。

  • L-Edit提供手动微调布线能力。

  • 广泛的PDK支持增强制造可行性。

  • Calibre物理验证保证设计正确性。

  • 流程的开放融合提高设计灵活性。'

  • 加速产品开发并降低设计难度。

随着光电子芯片复杂度增加,这种跨平台设计方案将越发重要。它代表了可扩展、可靠的设计模式,让用户获得最佳的设计体验。


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