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硅光子学应用在高效能运算(HPC)领域使用紧凑型通用光子引擎的异构集成(2/4)

二、集成方案综述


PE的集成方案对集成系统的功率、性能、面积和成本(PPAC)有着深远的影响。首先,PE的带宽密度(不论是边缘还是整个区域)由PIC和EIC的集成结构以及PE和主机IC之间的配置决定,一个优化的PE应该使收发器的I/O带宽最大化。其次,应通过最大限度地减小电子接口的寄生电容和电感,以及最大限度地减少光学接口的光纤耦合损耗,来避免额外的能量消耗(包括电子和光学的插入损耗)。


A.单片集成


EIC和PIC既可以单片集成,也可以异质集成。由于基本上回避了EIC—PIC接口上所有不需要的电子寄生元件,因此可以通过单片集成实现高数据率和高功率效率(见图3(A))。然而,由于EIC的性能本质上取决于设备的可扩展性,而PIC则不是,因此EIC通常需要最先进的逻辑节点,而PIC则不需要。目前最先进的单片集成节点是45nm和32nm。


单片集成很难成为经济上可行的解决方案,其主要原因就是EIC和PIC之间的技术节点差异。


B.异构集成


不管有没有硅通孔(TSV),异构集成都可以实现。如果没有硅通孔(TSV),PIC—EIC堆栈的电源线需要通过暴露在PIC表面上的线束来进行连接,或者需要通过一个定制的切割封装基板来连接到PIC。前者会降低性能,而后者不可避免地会导致更高的封装成本。如果使用硅通孔(TSV),则可以同时避免这两种不利情况。


然而,硅通孔(TSV)的使用有其自身的缺点。虽然EIC中的TSV可能会提供略短的信号路径,但它们会导致重复出现的禁区(Keep-Out-Zone, KOZ)工程工作,以减轻TSV在节点迁移期间对设备的应力场影响。如果TSV位于和节点无关的PIC中,而不是在与节点有关的EIC中,则可以避免大量禁区(KOZ)工程工作。随着系统速度的提高,铜通孔与其周围的硅之间的高耦合损耗将变得不可忽略。


COUPE本质上是一种异构集成技术,其设计目的是最大限度地减少电子耦合损耗,同时避免再次出现KOZ工程和TSV损耗。在我们对传统异构集成PE和COUPE的性能进行比较的链路分析中,当微环调制器(MRM)采用112Gbps无归零(NRZ)调制时,COUPE可以节省大约40%的驱动电流和能耗(见图4和表1)。

 

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图3.不同集成度的PE结构:(A)单片集成(B)异构集成。


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图4.在MRM上使用7nm FinFET和112Gbps/PAM4调制格式的发射机演示器,COUPE可以产生令人满意的开孔效果。而对于使用传统异构集成技术的发射器,则需要将驱动电流增加近1.7倍才能达到相同的开孔效果。


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表1.在我们对传统异构集成PE和COUPE的性能进行比较的链路分析中,当使用112Gbps的PAM4调制时,COUPE可以在驱动电流和能耗方面节省高达40%。



(相关信息和图片来源于论文,经过翻译修改)






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